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低壓等離子噴涂
日期：2026-01-16 03:31
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摘要： 低壓等離子噴涂又稱真空等離子噴涂，是將等離子噴涂工藝在低壓保護性氣氛中進行操作，從而獲得成分不受污染、結合強度高、涂層致密的一種工藝方法。從20世紀70年代末、80年代初開始在工業上推廣應用。中文名 低壓等離子噴涂 外文名 Low Pressure Plasma Spraying 又稱真空等離子噴涂 操作氣氛 低壓保護性氣氛 樣品特點 不受污染、結合強度高、涂層致密缺 點工件尺寸受真空室限制
低壓等離子噴涂工藝過程
低壓等離子噴涂I藝過程包括：抽真空、工件預熱電清理、涂層制備和冷卻等過程。
(1)抽真空并充惰性氣體...
低壓等離子噴涂又稱真空等離子噴涂，是將等離子噴涂工藝在低壓保護性氣氛中進行操作，從而獲得成分不受污染、結合強度高、涂層致密的一種工藝方法。從20世紀70年代末、80年代初開始在工業上推廣應用。中文名 低壓等離子噴涂 外文名 Low Pressure Plasma Spraying 又稱真空等離子噴涂 操作氣氛 低壓保護性氣氛 樣品特點 不受污染、結合強度高、涂層致密缺 點工件尺寸受真空室限制
低壓等離子噴涂I藝過程包括：抽真空、工件預熱電清理、涂層制備和冷卻等過程。
(1)抽真空并充惰性氣體。將工作室抽真空到2.6Pa，然后向工作室中充入氬氣使室內壓力達1.3X10Pa。
(2)工件預熱。采用正向轉移弧，即工件為陽極，噴槍為陰極對工件進行預熱。這種轉移弧的加熱方法比一般的非轉移弧預熱可節省50%的時間(對小的工件可省去預熱工序)。
(3)電清理。采用反向轉移弧，即工件為陰極，噴槍為陽極，利用電弧對工件表面進行濺射清理，可將工件表面的氧化膜及其它污物去除，從而產生一個話性很高的表面，以使涂層和基體產生一定的冶金結合(實用中均用聯合弧將電路接通后，再用轉移弧工作)。
(4)涂層制備。
(5)冷卻。噴涂完畢后工作室要繼續維持低壓惰性氣氛直到工件冷卻到100℃以下，再充人空氣。 [1]
2)工藝參數的選擇，影響涂層結構和性能的參數有以下五個：
(1)等離子射流。其特性主要取決于電流、氣體種類、氣體流量，應由微處理機監控,以保證高的精度和再現性。
(2)供粉。低壓等離子噴涂系統要用相同純度的粉末，在粉末送到噴槍之前，對粉未要進行干燥和真空除氧處理。
(3)基體質量。采用轉移弧清理和加熱基體。
(4)工件的運動。噴涂操作時，為使復雜零件表面獲得均勻的涂層厚度，采用機械系統操縱噴槍，由工件操縱機構移動工件。
(5)粉末輸送和注入狀態。
2)粒子速度高。
3)金屬粒子幾乎無氧化。
4)基體預熱溫度高。
5)可進行自凈化表面預處理。
6)噴涂距離對除層性能的影響小。
7)沉積速率高。
8)除層性能優異。
9)操作條件好。
(2)工件尺寸受真空室限制。
低壓等離子噴涂I藝過程包括：抽真空、工件預熱電清理、涂層制備和冷卻等過程。
(1)抽真空并充惰性氣體。將工作室抽真空到2.6Pa，然后向工作室中充入氬氣使室內壓力達1.3X10Pa。
(2)工件預熱。采用正向轉移弧，即工件為陽極，噴槍為陰極對工件進行預熱。這種轉移弧的加熱方法比一般的非轉移弧預熱可節省50%的時間(對小的工件可省去預熱工序)。
(3)電清理。采用反向轉移弧，即工件為陰極，噴槍為陽極，利用電弧對工件表面進行濺射清理，可將工件表面的氧化膜及其它污物去除，從而產生一個話性很高的表面，以使涂層和基體產生一定的冶金結合(實用中均用聯合弧將電路接通后，再用轉移弧工作)。
(4)涂層制備。
(5)冷卻。噴涂完畢后工作室要繼續維持低壓惰性氣氛直到工件冷卻到100℃以下，再充人空氣。 [1]
低壓等離子噴涂工藝控制
1)噴涂前的基體表面處理
噴砂處理對低壓等離子噴涂的涂層結合強度顯得并不重要，相反在薄的基體上，采用噴砂是有害的，可能在結合區域帶有雜質。只采用化學腐蝕幾乎不可能使涂層與基體有可靠的結合。提高結合強度更為有效的辦法是用轉移弧清理、預熱鉆體表面，并在噴涂過程中加熱基體以改善結合性能。2)工藝參數的選擇，影響涂層結構和性能的參數有以下五個：
(1)等離子射流。其特性主要取決于電流、氣體種類、氣體流量，應由微處理機監控,以保證高的精度和再現性。
(2)供粉。低壓等離子噴涂系統要用相同純度的粉末，在粉末送到噴槍之前，對粉未要進行干燥和真空除氧處理。
(3)基體質量。采用轉移弧清理和加熱基體。
(4)工件的運動。噴涂操作時，為使復雜零件表面獲得均勻的涂層厚度，采用機械系統操縱噴槍，由工件操縱機構移動工件。
(5)粉末輸送和注入狀態。
低壓等離子噴涂的特點
低壓等離子噴涂是將等離子噴槍、工件及其運轉機械置于低真空或選定的可控氣氛的密閉室里，在室外控制噴涂過程,通過真空和過濾系統，保持真空室一定的真空度。當等離子射流進人低真空環境,其形態和特性都將發生變化。低壓等離子噴涂主要特點
如下：
1)等離子射流束長，粒子受熱充分。2)粒子速度高。
3)金屬粒子幾乎無氧化。
4)基體預熱溫度高。
5)可進行自凈化表面預處理。
6)噴涂距離對除層性能的影響小。
7)沉積速率高。
8)除層性能優異。
9)操作條件好。
真空等離子噴涂的主要缺點
(1)設備昂貴，一次性投資高。一臺全自動的真空等離子噴涂設備售價高達100萬美元，因此，它主要用于宇航等**工業的關鍵部件噴涂，如燃氣輪機部件、火箭噴管等。(2)工件尺寸受真空室限制。
(3)低氣壓等離子射流的加熱效率降低，熱焓值較低，不易噴涂高熔點材料
文章來源：百度百科
