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簡單介紹：

小型粉末PVD包覆系統是一款小型粉末包覆系統，主要有2英寸磁控濺射頭和振動樣品臺組成。小型粉末PVD包覆系統粉末在振動樣品臺上振動翻滾，通過濺射在粉末表面進行包覆形成核殼結構。直流磁控濺射適合粉體表面包覆金屬材料.射頻磁控濺射適合材料表面包覆非金屬材料或碳。

詳情介紹：

小型粉末PVD包覆系統技術參數：

產品型號	小型粉末PVD包覆系統CY-16PW
產品特點	1、可對粉體材料進行表面包覆：采用磁控濺射，濺射時粉體材料在振動樣品臺上翻滾，達到粉體表面均勻包覆 2、設備小巧可在手套箱內使用，可處理樣敏感性材料
技術參數	1、輸入電壓：220 VAC 50/60Hz 2、電源輸出:1600 VDC 250 W 3、ZUI大電流：150 mA . 4、濺射頭：2英寸角度可調節濺射頭 5、振動樣品臺：樣品臺振動頻率可調節：6-33Hz 樣品臺直徑為50mm 建議樣品量: < 500 mg 建議顆粒尺寸: 1 ~ 1000um 石英腔體尺寸：165 mm OD.×150 mm ID×250 mm H 6、真空度： ①1.0E-2 Torr（采用機械泵），可濺射Au, Ag, Pt, Cu, Mo等靶 ② 1.0E-5 Torr（采用分子泵），可濺射Al, Mg, Li, Lr, Ti, Zn等易氧化金屬靶*大真空度可達到< 4.0E-6 Torr（分子泵系統抽時間12小時，腔體進行烘烤） 7、CE認證
產品規格	外形尺寸：長460×寬330×高810mm 凈重：20Kg
注意事項	警告： 1、濺射頭與高壓電源相連接，操作時必須佩帶防護手套 2、濺射前必須確保靶材，濺射頭，基片和樣品臺清潔，需要用砂紙和乙醇來清洗，Al或是Ni靶每次使用時都必須清洗和處理注意：粉末樣品必須干燥和分散

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